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    陰極電弧離子鍍的特點
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    佳達

    時間 : 2020-03-08 15:14 瀏覽量 : 22

     PVD涂層

     PVD方法包括真空蒸鍍,濺射和離子鍍。陰極電弧式離子鍍設備處于PVD的最前沿。HCD中空陰極離子電鍍系統在切削工具領域擁有良好的往績,可滿足各種客戶需求。

     陰極電弧離子鍍裝置的特點

     低溫處理

     涂層在200℃~500℃的低溫下進行。結果,消除了由于熱引起的材料劣化和變形。低溫回火鋼和要求尺寸精度的應用也廣受好評。

     附著力強

     因為施加了較大的負載電壓,所以離子與工件的碰撞能量增加,并且對基材的擴散作用增加。因此,鍍膜的附著力強于其他PVD方法。

     均勻涂層

     由于在各個方向上都安裝了大量的等離子源(蒸發器),因此可以在形狀復雜的工件上進行均勻的涂覆。

     此外,該鍍膜設備是可以處理大型零件和長加工的材料。

     復合膜和多層膜

     TiAlN、TiN/CrN、TiN等。

    涂層膜系用途
    氮化鈦TiN適用于各種領域,例如耐磨性,耐腐蝕性,脫模性和防咬著性。通用切削工具(包括重新磨削工具),模具(樹脂模具,壓模),機器零件和裝飾品。適用于要求高硬度和低摩擦系數的領域。切削工具(包括修磨工具).
    鈦鋁用于要求高硬度和耐熱性的領域。切削工具(包括再拋光工具),壓模(鋁壓鑄件),機械零件(光學零件)。
    鉻Cr
    對于需要進一步提高耐腐蝕性,耐熱性和滑動特性的領域。機械零件和模具(樹脂模具,鋁壓鑄件,拉絲模)具有耐腐蝕性,耐熱性和抗咬合性。
    用于裝飾目的,具有優雅的色彩。




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